【财新网】苦光刻机久矣的半导体行业，终于盼来了曙光。10月13日，日本佳能公司宣布，正式推出可以用于制造存储芯片的纳米压印半导体制造设备FPA-1200NZ2C，并于当天开始接受订单。佳能表示，佳能的NIL（纳米压印）技术可实现最小线宽 14 纳米的图案化，相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的5 纳米节点。
纳米压印这种像盖图章一样造芯片的方法，相对于光刻机效率更高、精度更高、成本更低，那么它在取代光刻机的道路上，还有什么阻力？
智库科技周评｜纳米压印，能否取代光刻机？
2023年10月17日 13:08
相较于传统的光刻方式，纳米压印成本更低，工时更短，精度更高，因此不少人预测，当纳米压印技术成熟之后，极有可能取代光刻机。但纳米压印的劣势在于，制作高质量的纳米压印模板需要复杂的制备工艺，可能会增加制程的复杂度和成本
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- 资料图：正在运行中的纳米压印半导体制造设备FPA-1200NZ2C。图：佳能官网
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责任编辑：冯禹丁 | 版面编辑：李东昊
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